在現代工業生產和環境監管中，從污水處理廠到半導體潔凈室，HORIBA的氨監測技術正靜默地守護著我們的環境和生產安全。

在環境監測和工業過程控制領域，氨氣（NH3） 和氨氮（NH4-N） 的精確監測至關重要。無論是污水處理廠的曝氣池、半導體生產的潔凈室，還是工業煙氣的排放，氨濃度的精準測量都直接關系到環境安全、生產效率和合規性。

日本HORIBA作為分析測量技術的全球領導，憑借其先進的技術和豐富的產品線，為各行業提供了全面的環境氨監測解決方案。

01 污水處理：HC-200NH氨氮分析儀

在污水處理領域，HORIBA的HC-200NH氨氮分析儀 展現出性能。這款現場安裝型分析儀采用電極法氨氮測量原理，專門設計用于污水處理曝氣池的連續監測。

其量程覆蓋NH4-N：0-1000mg/L，顯示范圍更可達0-2000mg/L，適應不同濃度的監測需求。

HC-200NH的設計充分考慮了實際應用的便捷性。它采用無需工具即可更換電極的設計，大大簡化了維護工作。

配備的新型超聲波清洗器（可選）能夠在不對傳感器造成傷害的情況下進行連續清洗，有效防止長期粘附污染。

該設備的自診斷功能實現了連續測量過程中的傳感器劣化診斷，降低了測量突然中斷的風險，提供更可靠的測量保障。

在東京都政府下水道局的實地評估中，HC-200NH在6個月的評估期內實現了穩定測量，無需更換傳感器，證明了其長期可靠性。

02 環境空氣監測：APNA-370/CU-2環境氨監測儀

對于環境空氣中的氨濃度監測，HORIBA推出了APNA-370/CU-2環境氨監測儀。該設備采用化學發光法（CLD） 測量原理，能夠檢測經氧化物催化劑處理后增加的氮氧化物（NOx），并以氨（NH3）濃度表示。

HORIBA的錯流調制方法確保了長期穩定性和可靠的測量值，最小檢測靈敏度達到5ppb，能夠精確捕捉環境中的微量氨污染。

該監測儀適用于大氣環境監測、廠界周邊氨濃度監測等場景，為環境監管提供可靠的數據支持。其穩定的性能使其能夠在各種環境條件下持續工作，保證監測數據的連續性和準確性。

03 工業煙氣監測：ENDA-C2000氨分析系統

在工業煙氣監測領域，HORIBA的ENDA-C2000氨分析系統專門用于監測氨干式脫硝裝置排放尾氣中的殘留NH3濃度。該系統采用無漂移新型化學發光法分析儀（CLA），檢測器實現了高度優化。

ENDA-C2000實現了NH3、NOx最小量程0-10ppm，標準量程為20-100ppm，適用于不同濃度的煙氣監測。

其再現性為±0.5%F.S.（周圍溫度-5～40℃的情形），保證了測量結果的可靠性。

該系統采用前面操作方式，完善了自我診斷功能，力求使用便利。它可監測脫硝催化劑的劣化、限制NH3的注入量、防止硫酸銨結晶物的生成等，在設備的監測、控制方面發揮重要作用。

04 半導體行業：潔凈室氨濃度監測

在半導體制造領域，即使濃度低至十億分之一（ppb）量級的氨氣也會導致產品質量問題。當光刻膠中光致產生的酸被潔凈室空氣中的氨氣（NH?）中和時，就會產生缺陷，導致線寬和線形結構劣化。

HORIBA針對半導體行業的特殊需求，開發了多點AMC監測系統。該系統由線路選擇器與AMC監測系統構成，通過設置多個采樣點，顯著提升分析的空間分辨率，實現污染源的早期發現及快速處置。

與傳統人工分析方法相比，HORIBA的監測系統能夠即時提供測量數據，避免污染檢測延遲，防止污染在潔凈室擴散并造成產品良率下降。

05 多參數氣體分析：VA-3000/VS-3000系列

對于需要同時監測多種氣體的復雜應用場景，HORIBA提供了VA-3000/VS-3000系列多參數氣體分析儀。這些分析儀采用多種測量原理，包括NDIR（非分光紅外吸收）、CLA（化學發光法）、MPA（磁壓法） 等。

該系列的重復性為+/- 0.5% F.S.，線性為+/- 1.0% F.S.，響應時間T90在30秒以內，保證了測量結果的高精度和快速響應。

VA-3000/VS-3000系列可測量包括CO、CO2、NOx、SO2、CH4等多種氣體成分，量程比CLA可達1:100，適應不同濃度的測量需求。

這些分析儀采用19英寸機柜設計，支持模擬輸出（DC 4-20mA）和數字通訊（RS-232C），便于系統集成和數據傳輸。

06 技術創新與核心

HORIBA在氨監測領域的技術優勢源于其持續的創新投入。公司在氮化合物分析領域擁有多項核心，其中一項關于流體樣品濃度監測的詳細闡述了氨監測的技術原理。

該提到，對于NH3等強吸附性化合物的測量，處理手段需要具備高速響應性。中發現，通過在下游流道設置突出部分或階梯部分，形成層流然后轉變為湍流，邊界層氣體與層外氣體混合轉移，可以在平行于氣體流動的流道中快速加熱。

這種機制為分析儀提供了高的性能，特別是在需要高速度響應的應用中。中還描述了一種使用化學發光探測器（CLD）作為NO分析儀的氮化合物分析儀配置，能夠輕松準確地測量NH3和NO2這兩種組分。

從污水處理廠到半導體潔凈室，從環境空氣到工業煙氣，HORIBA的氨監測技術正在各個領域守護著環境和生產安全。 其產品不僅提供了精確的測量數據，更通過智能化的自診斷功能、簡易的維護設計和堅固的結構可靠性，為用戶提供了全面的解決方案。

隨著環境法規日益嚴格和工業過程要求不斷提高，HORIBA憑借其持續創新能力，將繼續環境氨監測技術的發展方向，為全球環境保護和工業升級提供技術支持。